電子・情報材料工学	（３年前期）
Materials Science for Electronic and Information Devices	単位数：２
担当：大貫仁	コード：T8237

概要

半導体デバイスおよび磁気記録デバイスの動作原理ならびにデバイスに使用される薄膜・微細材料の物性と信頼性について講義する。 ●JABEE関連科目：

キーワード

半導体物理、pn接合、バイポーラトランジスタ、MOSFET、集積回路、薄膜作製、微細加工、薄膜材料の信頼性物理、パッケージング技術、パワー半導体デバイス、磁気記録の原理、磁性材料

到達目標

半導体デバイスおよび磁気記録デバイスの動作原理ならびにデバイスに使用される薄膜材料の特性と信頼性について理解を深めることを目的とする。 ●JABEE対応：D-3.マテリアルの機能および設計・利用に関する基本の理解100%、JABEE目標：◎D、○G

授業計画

ガイダンス、半導体および磁気学の歴史 pn接合の物理 MOSトランジスタ 半導体ウエハプロセス1 半導体ウエハプロセス2 配線材料形成技術1 配線材料形成技術2 微細加工技術 配線材料の信頼性物理1 配線材料の信頼性物理2 実装技術1 実装技術2 磁気記録技術の概要1 磁気記録技術の概要2 期末試験

履修上の注意

材料電子物性学も履修する必要がある。

成績の評価方法

期末試験(80%)、出席(10%)、宿題(10%)

教科書・参考書

教科書：「半導体材料工学」、大貫仁、内田老鶴圃 磁気記録技術はプリント

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